Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://minesparis-psl.hal.science/hal-01721378
Soumis le : vendredi 2 mars 2018-09:21:50
Dernière modification le : mardi 28 avril 2026-10:39:01
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01721378 , version 1
Citer
Catheline Cazako, Karim Inal, Alain Burr, Frédéric Georgi, Rodolphe Cauro. Discharge frequency and reagents choice effects on robustness of silicon nitride (Si3N4) thin layers deposited by PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition). European Conference on Heat Treatment and Surface Engineering, Jun 2017, Nice, France. ⟨hal-01721378⟩
245
Consultations
0
Téléchargements
